发明名称 电路阵列基板
摘要 本发明摘要如下。于一玻璃基板3上形成互相绝缘的多晶矽半导体层21与虚拟多晶矽半导体层25。于多晶矽半导体层21、虚拟多晶矽半导体层25以及玻璃基板3上形成闸极绝缘膜31。闸极绝缘膜31会被复数条扫描与闸极线路11覆盖,其会与多晶矽半导体层21及虚拟多晶矽半导体层25重叠。多晶矽半导体层21会和扫描与闸极线路11耦合,用以界定电容器Ca ,而且还会和一参考电位耦合,用以界定电容器 Cb。同样地,虚拟多晶矽半导体层25会和扫描与闸极线路11耦合,用以界定复数个电容器Cc ,而且还会和一参考电位耦合,用以界定电容器Cd。电容器Cc与Cd会提高与Ca及 Cb并联的电容,用以抑制于形成该等扫描与闸极线路11之后因制程中所产生之静电电荷而造成外加于扫描与闸极线路11及多晶矽半导体层21间之闸极绝缘膜31上的电压升高的情形。因此,其可抑制闸极绝缘膜31处之静电崩溃现象以及像素5的点缺陷现象。
申请公布号 TWI249855 申请公布日期 2006.02.21
申请号 TW093121763 申请日期 2004.07.21
申请人 东芝松下显示技术股份有限公司 发明人 川村哲也
分类号 H01L29/786;G02F1/13 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种电路阵列基板,其包括: 一透光基板; 一形成于该透明基板上的薄膜电晶体,其具有一第 一半导体层、一闸极绝缘膜与一闸极线路;以及 一形成于该透明基板上的第二半导体层, 其中该闸极线路会介以该闸极绝缘膜与该等第一 与第二半导体层重叠。 2.如请求项1之电路阵列基板,其中会于一制程中制 造该第一半导体层,以及 会于和该第一半导体层相同的制程中来制造该第 二半导体层。 3.如请求项2之电路阵列基板,其中该闸极绝缘膜系 形成于该透明基板之上,以及 该闸极线路系形成于该闸极绝缘膜之上。 4.如请求项3之电路阵列基板,其进一步包括一第一 绝缘膜,用以覆盖该闸极线路与该闸极绝缘膜,其 中该第一绝缘膜系用电浆化学气相沉积法所制成, 该透明基板系一玻璃基板,以及 该等第一与第二半导体层系多晶矽半导体层。 5.如请求项4之电路阵列基板,其进一步包括介以该 第一绝缘膜而形成于该第二半导体层之上的视讯 信号线路。 6.如请求项5之电路阵列基板,其进一步包括一形成 于该视讯信号线路与该第一绝缘膜之上的保护膜, 以及 一形成于该保护膜之上的彩色层; 其中该第二半导体层系供该彩色层使用。 7.如请求项1至6中其中一项之电路阵列基板,其中 电容器群Ca系介以该透明基板被界定于该第一半 导体层和一参考电位之间, Cb系介以该闸极绝缘膜被界定于该第一半导体层 和该闸极线路之间, Cc系介以该透明基板被界定于该第二半导体层和 该参考电位之间,以及 Cd系被界定于该第二半导体层和该闸极线路之间, 以及 该等电容器群满足下面的公式:Ca/(Ca+Cb)<Cc/(Cc+Cd)。 8.一种平面显示装置,其具有如请求项1至7中其中 一项之电路阵列基板,其进一步包括一形成于该电 路阵列基板之主平面上的光学调制器。 图式简单说明: 图1为根据本发明第一具体实施例之平面显示装置 的平面图; 图2为图1所示之平面显示装置的概略剖面图,该平 面显示装置系被置放于一导电工作台上; 图3为图1所示之平面显示装置沿着直线III-III'切割 而成的剖面图; 图4为图1所示之平面显示装置的概略电路配置图; 以及 图5为根据本发明第二具体实施例之平面显示装置 的平面图。
地址 日本