发明名称 半导体晶片封装构造及其制造方法
摘要 一种半导体晶片封装构造,其包含:一半导体晶片具有一金属薄镀层直接形成于该晶片之背面上,一封胶体包覆该晶片使得该晶片背面之金属层系裸露于该封胶体之下表面。该封胶体具有复数个突出部突出于该封胶体之下表面。复数条连接线一端电性连接于该半导体晶片,另一端裸露于该封胶体之复数个突出部用以连结外部电路。较佳地,该连接线于该复数个突出部之纵向裸露长度是该复数条连接线线径约四倍以上。本发明另提供制造该半导体晶片封装构造之方法。
申请公布号 TWI249828 申请公布日期 2006.02.21
申请号 TW090119465 申请日期 2001.08.07
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 李士璋;李俊哲;李政颖
分类号 H01L23/34;H01L23/12 主分类号 H01L23/34
代理机构 代理人 花瑞铭 高雄市前镇区中山二路7号14楼之1
主权项 1.一种半导体晶片封装构造,其包含: 一半导体晶片; 一金属层直接形成于该晶片之背面上; 一封胶体包覆该晶片使得该晶片背面之金属层系 裸露于该封胶体之下表面,该封胶体具有复数个突 出部突出于该封胶体之下表面;及 复数条连接线,其一端电性连接于该半导体晶片, 另一端裸露于该封胶体之复数个突出部。 2.依申请专利范围第1项之半导体晶片封装构造,其 中该连接线为金线。 3.依申请专利范围第1项之半导体晶片封装构造,其 中该金属层材质为金。 4.依申请专利范围第1项之半导体晶片封装构造,其 中该连接线于该复数个突出部之纵向裸露长度是 该复数条连接线线径约四倍以上。 5.一种半导体晶片封装构造制造方法,其包含下列 步骤; 提供一胶带包含一第一胶层于其上表面,及一第二 胶层于其下表面,该胶带具有复数的孔穴; 将该胶带藉由下表面之第二胶层固定于一硬质金 属平板,以形成一胶带平板复合体; 将一半导体晶片藉由该胶带上表面之第一胶层固 定于该胶带平板复合体上使得该胶带的孔穴系位 于在该半导体晶片的四周; 将复数条连接线的第一端分别电性连接该半导体 晶片,其第二端分别穿过相对应该胶带的孔穴而连 接至至该金属硬质平板; 形成一封胶体至少覆盖该半导体晶片、该复数条 连接线以及该胶带平板复合体表面之一部份;及 在该封胶步骤形成之后,移除该金属硬质平板及胶 带,使得该复数条连接线的第二端裸露于该封胶体 外。 6.依申请专利范围第5项之半导体晶片封装构造制 造方法,其中该连接线为金线。 7.依申请专利范围第5项之半导体晶片封装构造制 造方法,其中该胶带为具有一矽树脂(silicones)胶层 之聚酯(polyester)或聚醯亚胺(polyimide)胶带。 8.一种半导体晶片封装构造制造方法,其包含下列 步骤; 提供一胶带包含一第一胶层于其上表面,及一第二 胶层于其下表面,该胶带具有复数的孔穴; 将该胶带藉由下表面之第二胶层固定于一硬质金 属平板,以形成一胶带平板复合体; 形成一金属薄镀层于该胶带平板复合体未为该胶 带覆盖之处; 将一半导体晶片固定于该胶带平板复合体上,使得 该胶带的孔穴系位于在该半导体晶片的四周; 将复数条连接线的第一端分别电性连接至该半导 体晶片,其第二端分别穿过相对应该胶带的孔穴而 连接至该金属硬质平板上之金属薄镀层; 形成一封胶体至少覆盖该半导体晶片、该复数条 连接线以及该胶带平板复合体表面之一部份;及 在该封胶步骤形成之后,移除该金属硬质平板、胶 带及该金属薄镀层,使得该复数条连接线的第二端 裸露于该封胶体外。 9.依申请专利范围第8项之半导体晶片封装构造制 造方法,其中该连接线为金线。 10.依申请专利范围第8项之半导体晶片封装构造制 造方法,其中该金属薄镀层材质为金。 11.依申请专利范围第8项之半导体晶片封装构造制 造方法,其中该胶带为一具有一矽树脂(silicones)胶 层之聚酯(polyester)或聚醯亚胺(polyimide)胶带。 12.一种半导体晶片封装构造制造方法,其包含下列 步骤; 提供一胶带包含一第一胶层于其上表面,及一第二 胶层于其下表面,该胶带具有复数个孔穴; 将该胶带藉由下表面之第二胶层固定于一非金属 硬质平板,以形成一胶带平板复合体; 无电极电镀一金属薄镀层于该胶带平板复合体之 表面上; 将一半导体晶片固定于该胶带平板复合体之金属 薄镀层上,使得该胶带的孔穴系位于在该半导体晶 片的四周; 将复数条连接线的第一端分别电性连接至该半导 体晶片,其第二端分别穿过该胶带的孔穴而连接至 该非金属硬质平板上之金属薄镀层; 形成一封胶体至少覆盖该半导体晶片、该复数条 连接线以及该胶带平板复合体表面之一部份;及 在封胶步骤形成之后,移除该非金属硬质平板、胶 带及该金属薄镀层,使得该复数条连接线的第二端 裸露于该封胶体外。 13.依申请专利范围第12项之半导体晶片封装构造 制造方法,其中该连接线为金线。 14.依申请专利范围第12项之半导体晶片封装构造 制造方法,其中该金属薄镀层材质为金。 15.依申请专利范围第12项之半导体晶片封装构造 制造方法,其中该胶带为一具有一矽树脂(silicones) 胶层之聚酯(polyester)或聚醯亚胺(polyimide)胶带。 图式简单说明: 第1图:习用半导体晶片封装构造之剖面图; 第2图:另一习用半导体晶片封装构造之剖面图; 第3图:根据本发明较佳实施例之半导体晶片封装 构造之剖面图; 第4图:根据本发明第3图之半导体晶片封装构造之 下视图; 第5a图至第5d图:其系用以说明根据本发明第一较 佳实施例之半导体晶片封装构造制造方法; 第6图:根据本发明第5c图之部分放大剖视图,其揭 示一连接线压接于一金属硬质平板; 第7图:根据本发明第4图半导体晶片封装构造之部 分放大下视图,其揭示一连接线裸露于封胶体突出 部之鱼尾状压接面; 第8a图至第8c图:其系用以说明根据本发明第二较 佳实施例之半导体晶片封装构造之方法;及 第9a图至第9d图:其系用以说明根据本发明第三较 佳实施例之半导体晶片封装构造之方法。
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