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经营范围
发明名称
真空处理装置
摘要
本发明之课题系在于提供容易进行处理室的交换作业之真空处理装置。本发明之用以解决课题之手段为:本发明的真空处理装置1具有处理室20与搬出入室10。搬出入室10系在处理室20的上方位置被固定着。另外,处理室20系藉由升降机构50能下降,所以若使处理室20下降的话,处理室20由搬出入室10分离。又,因在处理室20连接有搬运手段30,所以将处理室20由搬出入室10取下后,也容易搬运处理室20。如此,若根据本发明的话,比起以往,处理室20之交换作业变得简单容易。
申请公布号
TW200607013
申请公布日期
2006.02.16
申请号
TW094121933
申请日期
2005.06.29
申请人
爱发科股份有限公司
发明人
高桥诚一;宫谷武尚;林秀夫;佐藤真幸;堤贤吾;小野洋平
分类号
H01L21/302
主分类号
H01L21/302
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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