| 摘要 |
为提供一解析方法，能容易且适当对相关于处理程式(reicpe)或处理单元(unit)的组合之元件制造上的测量资料进行分析。依本发明之解析方法，将例如线宽精度或重叠精度等曝光结果之特性，从各批次(lot)之曝光处理结果任意检出，将该特性，与呈现该特性所进行之曝光处理时例如处理程式、曝光装置、或曝光前后处理装置(track)中的处理单元或其组合，建立对应关系而分类之。又，根据其分类结果来判定，曝光结果之特性是否与特定之处理程式或处理单元有相关性。在具有相关性时，在其后，于使用该处理程式或处理单元之批次投入时，则发出警告或施以自动修正等，以防止施以精度不佳之处理。 |
