发明名称 溅镀靶材
摘要 本发明系提供一种溅镀靶材,从而其可在溅镀时尽量不发生放电(arcing)现象、喷溅(splash)现象。本发明系对于溅镀靶材之使用于溅镀之部分进行摩擦搅拌处理者,因此即使是含碳之铝类合金之溅镀靶材、大型溅镀靶材,也可成为确实抑制溅镀时之放电现象、喷溅现象者。
申请公布号 TW200606270 申请公布日期 2006.02.16
申请号 TW094123117 申请日期 2005.07.08
申请人 三井金属业股份有限公司;轻金属股份有限公司 发明人 加藤和照;久保田高史;木村浩;松浦宜范;松崎健嗣
分类号 C23C14/34;C22C21/00 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 日本