真空处理装置

摘要

本真空处理装置在具备真空处理室20、22、24、基板架40与准备室14之真立式真空处理装置10中，在准备室14内与真空处理室20、22、24内设有往路16与回路18两种搬送路径，同时在真空处理室24内其有将基板架由往路16移载到回路18之移载机构。