发明名称 | 分析方法 | ||
摘要 | 一种分析方法。首先,提供一基板,此基板上形成有至少一膜层覆盖待分析图案及参考图案。接下来,移除部份膜层至暴露出参考图案,并以参考图案作为参考,定位出未暴露之待分析图案。最后,对定位好之待分析图案进行分析。如此可进行准确的分析且避免图形的破坏。 | ||
申请公布号 | TW200607035 | 申请公布日期 | 2006.02.16 |
申请号 | TW093123777 | 申请日期 | 2004.08.09 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 王如樱;阎宝贞;陈定为 |
分类号 | H01L21/66;H01L21/302 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 代理人 | 洪澄文;颜锦顺 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号 |