发明名称 分析方法
摘要 一种分析方法。首先,提供一基板,此基板上形成有至少一膜层覆盖待分析图案及参考图案。接下来,移除部份膜层至暴露出参考图案,并以参考图案作为参考,定位出未暴露之待分析图案。最后,对定位好之待分析图案进行分析。如此可进行准确的分析且避免图形的破坏。
申请公布号 TW200607035 申请公布日期 2006.02.16
申请号 TW093123777 申请日期 2004.08.09
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 王如樱;阎宝贞;陈定为
分类号 H01L21/66;H01L21/302 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行一路12号