| 主权项 |
1.一种直下式背光模组改良,其背光模组系设有若 干光源以及扩散板,各光源之光线由扩散板之下方 射入,以将光线均匀扩散射出扩散板之板面;其特 征在于: 各光源与扩散板间系具有第一间距,而各光源间系 具有第二间距,该第一间距系由扩散板中间处朝两 侧渐减,其第二间距则由扩散板中间处朝两侧渐增 。 2.如申请专利范围第1项所述直下式背光模组改良, 其中,各光源系设置于背板上。 3.如申请专利范围第2项所述直下式背光模组改良, 其中,该背板与扩散板间系具有第三间距,其第三 间距系由扩散板中间处朝两侧渐减。 4.如申请专利范围第2项所述直下式背光模组改良, 其中,该背板系为阶梯状、弧状或V型之结构体。 5.如申请专利范围第4项所述直下式背光模组改良, 其中,该弧状或V型之结构体其开口向下。 6.如申请专利范围第1项所述直下式背光模组改良, 其中,各光源下方系设有反射片。 7.如申请专利范围第6项所述直下式背光模组改良, 其中,该反射片与扩散板间系具有第四间距,其第 四间距系由扩散板中间处朝两侧渐减。 8.如申请专利范围第6项所述直下式背光模组改良, 其中,该反射片系为阶梯状、弧状或V型之结构体 。 9.如申请专利范围第8项所述直下式背光模组改良, 其中,该弧状或V型之结构体其开口向下。 10.一种直下式背光模组改良,其背光模组系设有若 干光源以及扩散板,各光源之光线由扩散板之下方 射入,以将光线均匀扩散射出扩散板之板面;其特 征在于: 各光源与扩散板间系具有第一间距,而各光源间系 具有第二间距,该第一间距系由扩散板中间处朝两 侧渐增,其第二间距则由扩散板中间处朝两侧渐减 。 11.如申请专利范围第10项所述直下式背光模组改 良,其中,各光源系设置于背板上。 12.如申请专利范围第11项所述直下式背光模组改 良,其中,该背板与扩散板间系具有第三间距,其第 三间距系由扩散板中间处朝两侧渐增。 13.如申请专利范围第11项所述直下式背光模组改 良,其中,该背板系为阶梯状、弧状或V型之结构体 。 14.如申请专利范围第13项所述直下式背光模组改 良,其中,该弧状或V型之结构体其开口向下。 15.如申请专利范围第10项所述直下式背光模组改 良,其中,各光源下方系设有反射片。 16.如申请专利范围第15项所述直下式背光模组改 良,其中,该反射片与扩散板间系具有第四间距,其 第四间距系由扩散板中间处朝两侧渐增。 17.如申请专利范围第15项所述直下式背光模组改 良,其中,该反射片系为阶梯状、弧状或V型之结构 体。 18.如申请专利范围第17项所述直下式背光模组改 良,其中,该弧状或V型之结构体其开口向下。 图式简单说明: 第一图系为习用背光模组之结构剖视图。 第二至四图系为本创作第一实施例中背板与各光 源之结构剖视图。 第五图系为本创作直下式背光模组中光源表现之 示意图。 第六图系为本创作第二实施例中背板与各光源之 结构剖视图。 第七图系为本创作第三实施例中背板与各光源之 结构剖视图。 第八至九图系为本创作第四实施例中背板与各光 源之结构剖视图。 第十图系为本创作第五实施例中背板与各光源之 结构剖视图。 第十一图系为本创作第六实施例中背板与各光源 之结构剖视图。 第十二图系为本创作第一实施例中反射片与各光 源之结构剖视图。 第十三图系为本创作第二实施例中反射片与各光 源之结构剖视图。 |
