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发明名称 DIFFUSION PROCESS METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
摘要
申请公布号 KR20060014905(A) 申请公布日期 2006.02.16
申请号 KR20040063639 申请日期 2004.08.12
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, DONG KYU
分类号 H01L21/68;H01L21/324 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人
主权项
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