发明名称 |
光阻剂组成物,光阻剂组成物之涂布方法及光阻剂图案之形成方法 |
摘要 |
本发明系一种光阻剂组成物、光阻剂组成物之涂布方法及光阻剂图案之形成方法,主要系提供在涂布时不形成条斑等的LCD─TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光阻剂组成物、光阻剂组成物的涂布方法及抗蚀剂图案的形成方法。排出喷嘴式涂布法光阻剂组成物含有:(A)碱可溶性树脂;(B)感光剂;以及(C)由含以通式(1):CH#sB!2#eB!=CR#sP!1#eP!COOCH#sB!2#eB!CH#sB!2#eB!C#sB!8#eB!F#sB!17#eB!(式中,R#sP!1#eP!是氢原子或者甲基)表示的氟代烷基单体(ml)和含以通式(2):CH#sB!2#eB!=CR#sP!2#eP!COO(C#sB!3#eB!H#sB!6#eB!O)nH(式中,R#sP!2#eP!是氢原子或者甲基,n作为分布的平均值是4~7)表示的聚氧丙烯单体(m2)构成的单体混合物(m)进行聚合而得到的共聚物(P),上述单体混合物(m)中的上述单体(m1)和(m2)的混合比(m1)/(m2)是25/75~46/60(重量比),且上述共聚物(P)的重均分子量是3000~10000的氟系表面活性剂。 |
申请公布号 |
TW200830040 |
申请公布日期 |
2008.07.16 |
申请号 |
TW096135430 |
申请日期 |
2007.09.21 |
申请人 |
AZ电子材料(日本)股份有限公司;大日本油墨化学工业股份有限公司 |
发明人 |
池本准;岛仓纯一;高野圣史;松尾二郎 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/023(2006.01);B05D1/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
洪尧顺 |
主权项 |
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地址 |
日本 |