发明名称 光阻剂组成物,光阻剂组成物之涂布方法及光阻剂图案之形成方法
摘要 本发明系一种光阻剂组成物、光阻剂组成物之涂布方法及光阻剂图案之形成方法,主要系提供在涂布时不形成条斑等的LCD─TFT基板制造用排出喷嘴式涂布法光阻剂组成物、光阻剂组成物的涂布方法及抗蚀剂图案的形成方法。排出喷嘴式涂布法光阻剂组成物含有:(A)碱可溶性树脂;(B)感光剂;以及(C)由含以通式(1):CH#sB!2#eB!=CR#sP!1#eP!COOCH#sB!2#eB!CH#sB!2#eB!C#sB!8#eB!F#sB!17#eB!(式中,R#sP!1#eP!是氢原子或者甲基)表示的氟代烷基单体(ml)和含以通式(2):CH#sB!2#eB!=CR#sP!2#eP!COO(C#sB!3#eB!H#sB!6#eB!O)nH(式中,R#sP!2#eP!是氢原子或者甲基,n作为分布的平均值是4~7)表示的聚氧丙烯单体(m2)构成的单体混合物(m)进行聚合而得到的共聚物(P),上述单体混合物(m)中的上述单体(m1)和(m2)的混合比(m1)/(m2)是25/75~46/60(重量比),且上述共聚物(P)的重均分子量是3000~10000的氟系表面活性剂。
申请公布号 TW200830040 申请公布日期 2008.07.16
申请号 TW096135430 申请日期 2007.09.21
申请人 AZ电子材料(日本)股份有限公司;大日本油墨化学工业股份有限公司 发明人 池本准;岛仓纯一;高野圣史;松尾二郎
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/023(2006.01);B05D1/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 洪尧顺
主权项
地址 日本