发明名称 Vorrichtung und Verfahren zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung
摘要 Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung aus einem energiestrahlinduzierten Plasma, insbesondere von Röntgenstrahlung und EUV-Strahlung. DOLLAR A Die Aufgabe der Erfindung, eine neue Möglichkeit zum Dosieren von Targetmaterial für die Erzeugung kurzwelliger elektromagnetischer Strahlung aus einem energiestrahlinduzierten Plasma zu finden, die eine Bereitstellung reproduzierbar zugeführter massenlimitierter Targets derart gestattet, dass nur so viel Targetmaterial in die Wechselwirkungskammer zur Plasmaerzeugung gelangt, wie durch den Energiestrahl effektiv zu strahlendem Plasma im gewünschten Wellenlängenbereich konvertierbar ist, und die Gaslast sowie die Debriserzeugung minimiert ist, wird erfindungsgemäß gelöst, indem zur Targeterzeugung eine Injektionseinrichtung vorhanden ist, bei der vor der Düse in einer Düsenkammer Mittel zur definierten, kurzzeitigen Druckerhöhung angeordnet sind, um ausschließlich bei Bedarf ein Einzeltarget in der Wechselwirkungskammer einzubringen, und eine Vorkammer zur Erzeugung eines quasistatischen Druckes vor der Wechselwirkungskammer um die Düse angeordnet ist, wobei in der Vorkammer ein Gleichgewichtsdruck das Austreten von Targetmaterial verhindert, solange in der Düsenkammer keine Druckerhöhung vorliegt.
申请公布号 DE102004036441(A1) 申请公布日期 2006.02.16
申请号 DE20041036441 申请日期 2004.07.23
申请人 XTREME TECHNOLOGIES GMBH 发明人 HERGENHAN, GUIDO;KLOEPFEL, DIETHARD
分类号 H05G2/00 主分类号 H05G2/00
代理机构 代理人
主权项
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