| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型的基板处理装置具有：多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部。前述控制部具有：时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。通过将预备单元的准备处理纳入时序表，在进行处理液的准备处理的情况下，也可以提高装置的运转率。 | ||
| 申请公布号 | CN201171041Y | 申请公布日期 | 2008.12.24 |
| 申请号 | CN200720000398.4 | 申请日期 | 2007.03.28 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 山本真弘 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/67(2006.01);H01L21/306(2006.01);H01L21/02(2006.01);B08B3/04(2006.01);G05B19/418(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何立波;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，其具有：多个处理部，其用于对基板进行处理；预备单元，其进行在处理部中使用的处理液的准备；以及控制部，其特征在于，前述控制部具有：时序安排部，其对应于包括多个处理工序的工艺处方，生成时序表；以及预备单元时序安排部，其与时序安排部连接，参照前述时序安排部生成的时序表，生成前述预备单元的时序表，以使前述预备单元中的准备处理所需时间与前述处理部的使用定时配合而提前进行配置。 | ||
| 地址 | 日本京都 | ||