发明名称 Endowed organic semiconductor materials and method of prepration
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von dotierten organischen Halbleitermaterialien mit erhöhter Ladungsträgerdichte und effektiver Ladungsträgerbeweglichkeit durch Dotierung mit einem Dotanden (1), wobei nach dem Einmischen des Dotanden (1) in das organische Halbleitermaterial Wasserstoff, Kohlenoxid, Stickstoff oder Hydroxyradikale abgespalten wird und zumindest ein Elektron auf das Halbleitermaterial oder von dem Halbleitermaterial übertragen wird. Das Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass als Dotand (1) eine ungeladene organische Verbindung verwendet wird.</p><p>Ferner betrifft die Erfindung dotierte organische Halbleitermaterialien, erhältlich durch eines der Verfahren. Die Halbleitermaterialien zeichnen sich dadurch aus, dass in der dotierten Schicht Kationen (2) zumindest einer organische Verbindung enthalten ist, wobei die ungeladene Form der organischen Verbindung (1) an der Luft nicht stabil ist.</p>
申请公布号 EP1508903(A3) 申请公布日期 2006.02.15
申请号 EP20040016187 申请日期 2004.07.09
申请人 NOVALED GMBH 发明人 WERNER, ANSGAR, DIPL.-PHYS.;PFEIFFER, MARTIN, DR.;FENGHONG, LI
分类号 H01L51/40;H01L51/50;C07C13/15;C07C13/24;C07C15/20;C30B15/00;C30B21/06;C30B23/00;C30B25/00;C30B27/02;C30B28/10;C30B28/12;C30B28/14;C30B30/04;C30B31/00;H01L31/04;H01L51/00;H01L51/30;H01L51/42;H05B33/14;H05B33/22 主分类号 H01L51/40
代理机构 代理人
主权项
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