发明名称 纳米检测光学系统
摘要 本发明大范围纳米检测光学系统,涉及大范围纳米检测光学系统。为提供大范围纳米检测光学系统,该系统在确保高分辨率、高精度的前提下,测量范围扩大,本发明采用的技术方案是:由V型摩擦导轨、驱动马达、激光干涉系统等部分组成。其中,导轨采用V型滑动摩擦的形式,用五个聚四氟乙烯短垫支撑着导轨滑架,驱动装置为能够实现连续进给运动和匀速纳米级位移的大位移超微动连续可控式压电马达,整个系统结构布局对称,其测量线与导轨的中心线及激光干涉系统的中心线重合。本发明主要用于满足高精度位移量的测试,又可用于高精度位移传感器的检定,大规模集成电路的定位、加工和检测以及压电(铁电)陶瓷电致(磁致)伸缩的测定等。
申请公布号 CN1242241C 申请公布日期 2006.02.15
申请号 CN200410072546.4 申请日期 2004.10.28
申请人 天津大学 发明人 赵美蓉;林玉池;陆伯印;齐永岳
分类号 G01B11/02(2006.01);G01B9/02(2006.01) 主分类号 G01B11/02(2006.01)
代理机构 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人 刘国威
主权项 1.一种纳米检测光学系统,由V型摩擦导轨、驱动马达、激光干涉系统部分组成,其特征是,导轨采用V型滑动摩擦的形式,用五个聚四氟乙烯短垫支撑着导轨滑架,驱动装置为能够实现连续进给运动和匀速纳米级位移的大位移超微动连续可控式压电马达,此外还包括用于采集干涉信号,并用Heydemann算法对干涉信号进行误差补偿,在经过正切细分和位移计算,得出当时的位移量的测量控制系统CPU1,通过串行通讯接收测量控制系统CPU1发送信息,并控制的可控式压电马达开闭的马达控制系统CPU2,整个系统结构布局对称,其测量线与导轨的中心线及激光干涉系统的中心线重合。
地址 300072天津市南开区卫津路92号