发明名称 |
带有次分辨校准标记窗口的照相平版印刷掩膜及其校准方法 |
摘要 |
提供一种照相平版印刷掩膜,具有设置在透明感光底层表面上的不透可见光的膜。该膜包括至少一个定义电路特征的图像的开孔,以及一个用于观察相关晶片上的校准标记的窗口。该窗口具有在不透光膜上的一开孔阵列,其中每一个开孔的尺寸小于用于定义电路特征的图像的开孔的尺寸。还提供一种校准上述照相平版印刷掩膜和将被图形化的晶片的校准方法。该方法包括通过掩膜的窗口观察晶片上的校准标记的步骤,和在掩膜的窗口内定位晶片的校准标记的步骤。上述照相平版印刷掩膜及其校准方法可防止在晶片处理过程中把校准标记窗口图形传递到晶片上。 |
申请公布号 |
CN1242304C |
申请公布日期 |
2006.02.15 |
申请号 |
CN00813177.5 |
申请日期 |
2000.09.21 |
申请人 |
泰科电子罗吉斯迪克思股份公司 |
发明人 |
约汉·威廉·卢克·迪雷;马里昂·怀恩·皮肯斯 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
付建军 |
主权项 |
1.一种照相平版印刷掩膜,包括设置在透明感光底层表面上的不透可见光的膜,该膜包括至少一个定义电路特征的图像的开孔,以及一个用于观察在相关的晶片上的校准标记的窗口,该窗口包括在该不透光膜上的一开孔阵列,其中,所述开孔阵列中每个开孔的尺寸小于用于定义电路特征的图像的开孔的尺寸大约10倍。 |
地址 |
瑞士施泰纳赫 |