用于极高解析度图案化的扫描超紫外线干涉成像

摘要

本发明提供一种用于将图案写入至基板上之系统及方法。产生第一超紫外线(EUV)辐射光束及第二EUV辐射光束。使用一曝光单元以将该第一EUV辐射光束及该第二EUV辐射光束投影至一基板上。该第一辐射光束与该第二辐射光束彼此干涉以在该基板之一曝光场处曝光一第一平行线集合。