干蚀刻装置以及安装于其上的气孔装置

摘要

一种干蚀刻装置，其利用等离子体进行薄膜蚀刻。此干蚀刻装置由真空腔、上电极板、下电极板、等离子体真空放电区、电源以及气体出口所组成。其中，上电极板安装于真空腔内，且具有至少一气体入口，此气体入口用以导入工艺气体。下电极板亦安装于真空腔内，而等离子体真空放电区介于上电极板与下电极板之间。电源电连接上电极板与下电极板，用以提供等离子体真空放电区所需的电位差。气体出口连接真空腔与真空系统，用以维持真空腔内的等离子体状态。而上述的气体入口更具有一树脂层，用以保护气体入口免于被蚀刻影响。

主权项

1、一种干蚀刻装置，其利用等离子体进行薄膜蚀刻，该干蚀刻装置至少包含：一真空腔；一上电极板，安装于该真空腔内，该上电极板包含至少一气体入口，用以导入一工艺气体；一下电极板，安装于该真空腔内；一等离子体真空放电区，位于该真空腔内，且介于该上电极板与该下电极板之间；一电源，电连接该上电极板与该下电极板，用以提供该等离子体真空放电区一电位差；以及至少一气体出口，连接该真空腔与一真空系统，用以保持该真空腔内的等离子体状态；其中，该至少一气体入口还包括一树脂层，该树脂层安装于该至少一气体入口。