| 发明名称 | 光照设备、结晶设备、结晶方法和器件 | ||
| 摘要 | 一种光照设备，包括：光调制元件(1)，该元件具有相位阶梯，该相位阶梯具有远远不同于180°的相差；光照光学系统(10)，该系统照射光调制元件；和成像光学系统(4)，基于由光调制元件进行了相位调制的光束该系统在照射表面上形成光强度分布。光照光学系统用在垂直于相位阶梯的阶梯线的方向上倾斜的光照光束照射光调制元件。 | ||
| 申请公布号 | CN1734336A | 申请公布日期 | 2006.02.15 |
| 申请号 | CN200510091163.6 | 申请日期 | 2005.08.09 |
| 申请人 | 株式会社液晶先端技术开发中心 | 发明人 | 谷口幸夫;松村正清 |
| 分类号 | G02F1/1368(2006.01);G02F1/01(2006.01);H01L29/786(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1368(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 王英 |
| 主权项 | 1、一种光照设备，其特征在于包括：光调制元件，该元件具有相位阶梯，该相位阶梯具有远远不同于180°的相差；光照光学系统，该光照光学系统照射光调制元件；和成像光学系统，基于由该光调制元件进行了相位调制的光束，该成像光学系统在照射表面上形成光强度分布，其中该光照光学系统利用沿与相位阶梯的阶梯线垂直的方向倾斜的光照光束照射该光调制元件。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||