发明名称 |
processo para produção de uma placa de impressão revelável em água para uso na impressão em relevo |
摘要 |
"PROCESSO PARA PRODUçãO DE UMA PLACA DE IMPRESSãO REVELáVEL EM áGUA PARA USO NA IMPRESSãO EM RELEVO". A invenção refere-se a um processo para produção de uma placa de impressão revelável em água para impressão em relevo, compreendendo prover uma placa sólida feita de uma composição de resina fotosensitiva compreendendo pelo menos (a) uma resina hidrófila, (b) uma resina hidrófoba, (c) um composto insaturado fotopolimerizável e (d) um iniciador de fotopolimerização e sujeitar a placa sólida a pelo menos às etapas de exposição a raios actínicos, revelação e pós-exposição. No processo, a etapa de pós-exposição é realizada em uma atmosfera de baixa concentração de oxigênio.
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申请公布号 |
BRPI0407536(A) |
申请公布日期 |
2006.02.14 |
申请号 |
BR2004PI07536 |
申请日期 |
2004.02.17 |
申请人 |
ASAHI KASEI CHEMICALS CORPORATION |
发明人 |
KEIICHI HARAGUCHI;MASAHIRO YOSHIDA |
分类号 |
G03F7/032;G03F7/033;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/40;G03F7/00 |
主分类号 |
G03F7/032 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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