| 主权项 |
1.一种光学用抗反射膜,其特征为于基材薄膜之至 少一侧之表面上,依次积层(A)含电离放射线硬化树 脂之2~20m厚度之硬被覆层;(B)含电离放射线硬化 树脂与金属氧化物且折射率在1.70~1.95范围之30~120 nm厚的高折射率层I;(C)含电离放射线硬化树脂与金 属氧化物且折射率在1.60~1.70范围之5~70nm厚的高折 射率层II;及(D)含矽氧烷系聚合物且折射率在1.37~1. 47范围之60~180nm厚的低折射率层。 2.如申请专利范围第1项之光学用抗反射膜,其中(A) 层之硬被覆层为防眩性硬被覆层。 3.如申请专利范围第1项之光学用抗反射膜,其中(B) 层之高折射率层I中之金属氧化物为氧化钛及/或 锡掺杂氧化铟。 4.如申请专利范围第1或3项之光学用抗反射膜,其 中(C)层之高折射率层II中之金属氧化物为锑掺杂 氧化锡。 5.如申请专利范围第1项之光学用抗反射膜,其中(D) 层之低折射率层具有带电防止性能。 6.如申请专利范围第1项光学用抗反射膜,其系进一 步于(D)层上,设置(E)防污被覆层所形成。 |
