| 主权项 |
1.一种扩充卡之上、下盖体结构改良,该扩充卡至 少包括有一本体延伸有一对框架、一底盖及一对 应扣制之上、下盖体,其主要特征系于: 一本体,延伸有一对框架系为整体扩充卡之架体, 该框架系于侧壁上设有复数个凹槽与一斜导面,供 上盖体嵌合时所包覆,并于框架之前缘及后端各设 有一穿槽供勾扣公母件嵌合时所容置,另于本体前 缘设有定位孔以供上盖体之嵌扣部嵌插扣制,且本 体内部设有嵌槽供与底盖之扣块的嵌置; 一底盖,系嵌置于本体底部,该底盖上系设有复数 个定位孔供与下盖体之嵌扣部嵌扣,并于周围壁面 上设有单向的扣块; 一上盖体,系为与下盖体对应扣制之,其于两侧系 形成阶梯状之摺边,并于摺边上设有复数个扣槽对 应于下盖体之扣片,另于摺边前后端设有勾扣母件 ,供与下盖体之勾扣公件嵌合;以及 一下盖体,系为与上盖体对应扣制之,其于两侧系 形成有L状之摺边,并于摺边上设有复数个扣片与 上盖体之扣槽对应之,另于摺边前后端设有勾扣公 件,供与上盖体之勾扣母件嵌合组构之。 2.如申请专利范围第1项所述之扩充卡之上、下盖 体结构改良,其中,上、下盖体之扣制关系系运用 扣片与扣槽之扣制关系,实施于上、下盖体两侧对 应之摺边。 图式简单说明: 第1图:系本创作之立体分解图; 第2图:系本创作之上、下盖体立体分解图; 第3图:系本创作之上、下盖体侧视分解图; 第4图:系本创作之上、下盖体侧视组合图; 第5图:系本创作之上、下盖体设于主体框架上之 侧视图。 |
