PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT REVETU D'UNE COUCHE MESOPOREUSE ET SON APPLICATION EN OPTIQUE

摘要

Le procédé comprend :- la préparation d'un sol précurseur d'une couche mésoporeuse comprenant un agent précurseur choisi parmi les composés de formule M(X)4 (I), dans laquelle X est un groupe hydrolysable et M représente le silicium ou un métal tétravalent ; au moins un solvantorganique ; au moins un agent porogène ; de l'eau ; et éventuellement un catalyseur d'hydrolyse des groupements X ;- le dépôt d'un film du sol précurseur sur un substrat et la formation d'une structure mésoporeuse;- l'élimination de l'agent porogène ; et- la récupération du substrat ;le procédé étant caractérisé en ce que :(i) l'élimination de l'agent porogène s'effectue à une température ≤ 150°C ; et(ii) le procédé comprend l'introduction d'au moins un agent réactif à groupe hydrophobe avant et/ou après l'étape de dépôt (b).