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发明名称
Verfahren zur Modifikation von Resiststrukturen und Resistschichten aus wässriger Phase
摘要
申请公布号
DE10208786(B4)
申请公布日期
2006.02.09
申请号
DE20021008786
申请日期
2002.02.28
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG
发明人
YIP, SIEW SIEW;ROTTSTEGGE, JOERG;RICHTER, ERNST;FALK, GERTRUD;SEBALD, MICHAEL;SEIBOLD, KERSTIN;KERN, MARION
分类号
G03F7/40
主分类号
G03F7/40
代理机构
代理人
主权项
地址
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