发明名称 MASK BLANK FOR REFLECTION-TYPE EXPOSURE AND MASK FOR REFLECTION-TYPE EXPOSURE
摘要 반사형 노광용 마스크 블랭크 및 반사형 노광용 마스크를 제공하여, 회로 패턴 영역 이외로부터 광이 반사하지 않고, 고정밀도로 노광 전사를 할 수 있는 반사형 노광용 마스크를 실현한다. 반사형 마스크 블랭크는 기판(11) 상에 형성된 다층 반사막(12), 보호막(13), 흡수막(14), 이면 도전막(15)을 구비한다. 이면 도전막은 산화인듐 주석으로 형성된다. 기판은, SiO와, TiO와, 망간(Mn), 구리(Cu), 코발트(Co), 크롬(Cr), 철(Fe), 은(Ag), 니켈(Ni), 황(S), 셀레늄(Se), 금(Au), 네오디뮴(Nd)의 산화물 중 적어도 1종을 포함한다. 반사형 마스크 블랭크의 흡수막을 선택적으로 제거해서 회로 패턴을 형성하고, 회로 패턴의 주위의 흡수막과 보호막과 다층 반사막을 제거해서 차광 프레임을 형성하여, 반사형 마스크가 제작된다.
申请公布号 KR101642617(B1) 申请公布日期 2016.07.25
申请号 KR20147007476 申请日期 2012.09.24
申请人 도판 인사츠 가부시키가이샤 发明人 고데라, 유따까;사까따, 요;곤, 마사또
分类号 G03F1/24;G03F1/54;G03F1/60;G03F7/20;H01L21/027;H01L21/312 主分类号 G03F1/24
代理机构 代理人
主权项
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