发明名称 Verfahren und Einrichtung zur Bestimmung der Mängel einer Verunreinigung in einem Glas
摘要 <p>Eine Verunreinigung wird von einem Gas entfernt, das sich ergebende Gas wird in eine Zelle (15) eingelassen, und die Intensität des Lichts, das durch die Zelle (15) hindurchgegangen ist, wird als Bezugsgröße gemessen. Gas, welches eine Verunreinigung enthält, deren Konzentration bekannt ist, wird in die Zelle (15) eingelassen, und die Intensität des Lichts, das durch die Zelle (15) hindurchgegangen ist, wird bei jener Temperatur und jenem Druck gemessen, die bei der Messung der Bezugs-Lichtintensität verwendet wurden. Dann wird die dekadische Extinktion der Verunreinigung auf Grundlage des Verhältnisses der beiden Lichtintensitätsdaten erhalten, die durch die beiden, voranstehend geschilderten Messungen erhalten wurden. Die so erhaltene dekadische Extinktion der Verunreinigung wird in einem Speicher (20a) als Funktion einer Verunreinigungskonzentration gespeichert. Gas, das eine Verunreinigung enthält, deren Konzentration nicht bekannt ist, wird in die Zelle (15) eingelassen, und die Intensität des Lichts, das durch die Zelle (15) hindurchgegangen ist, wird gemessen bei jener Temperatur und jenem Druck, die bei den voranstehend geschilderten Messungen verwendet wurden. Die dekadische Extinktion der Verunreinigung wird auf Grundlage der zuletzt gemessenen Lichtintensität und der Bezugs-Lichtintensität erhalten. Die so erhaltene dekadische Extinktion wird auf die Funktion angewendet, um hierdurch die Verunreinigungskonzentration zu erhalten.</p>
申请公布号 DE102005033267(A1) 申请公布日期 2006.02.09
申请号 DE20051033267 申请日期 2005.07.15
申请人 OTSUKA ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 OKA, KOICHI;NITTA, SATOSHI
分类号 G01N21/03;G01N21/3554;G01N21/59 主分类号 G01N21/03
代理机构 代理人
主权项
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