发明名称 |
反射器、侧光型背照光设备和反射器基片 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种具有高亮度的侧光型背照光设备。所述设备还降低了不均匀亮度,和提供一种具有获得这种设备所需表面轮廓的反射器基片和具有高亮度及长耐用性的反射器,其中反射器基片在所述反射器中运行。通过在平面光源设备的光导向板和位于光导向板的一个主表面上的反射板的反射表面之间用突起等提供间隔,形成了防止变形的缓冲器。此外,按照顺序将基底层、主要包含银的金属层、以及透光氧化物层叠置在基片上以形成反射层。 |
申请公布号 |
CN1241034C |
申请公布日期 |
2006.02.08 |
申请号 |
CN01805045.X |
申请日期 |
2001.12.14 |
申请人 |
三井化学株式会社 |
发明人 |
吉田浩隆;福田伸;石川浩;田边胜 |
分类号 |
G02B5/02(2006.01);G02F1/1335(2006.01);G02F1/13357(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/02(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
温大鹏;章社杲 |
主权项 |
1.一种反射器,该反射器包括:基片;和形成于所述基片的一个主表面上的反射层,其特征在于,在所述基片上或所述基片上方有多个突起,且所述反射器的扩散率是在1%到20%的范围内,所述扩散率被定义为在550nm的波长下的漫反射率与全反射率之间的比率,基片的每平方毫米面积上的所述突起的数量为11个或更多但不超过69个,各个突起具有1.8-45μm的最大宽度和1.1-40μm的高度。 |
地址 |
日本东京都 |