| 发明名称 | 用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂和处理光致抗蚀剂层的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括50到80重量％的醋酸正丁酯，丙二醇烷基醚，和丙二醇烷基醚醋酸酯。该稀释剂既对人类无毒害，也不对生态带来不利影响，而且没有不适的气味。其废液和与之相关的废水容易处理，由此使得这种稀释剂对环境友好。本发明的光致抗蚀剂稀释剂具有优异的冲洗能力。 | ||
| 申请公布号 | CN1241072C | 申请公布日期 | 2006.02.08 |
| 申请号 | CN00817711.2 | 申请日期 | 2000.12.08 |
| 申请人 | 三星电子株式会社;AZ电子材料（日本）株式会社 | 发明人 | 朴弘植;周振豪;李有京;姜圣哲;吴世泰;姜德万 |
| 分类号 | G03F7/42(2006.01);H01L21/027(2006.01);C11D7/50(2006.01) | 主分类号 | G03F7/42(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 张平元;范明娥 |
| 主权项 | 1、一种用于冲洗光致抗蚀剂的稀释剂，其包括：50到80重量％的醋酸正丁酯，15到30重量％的丙二醇烷基醚，和5到20重量％的丙二醇烷基醚醋酸酯。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||