| 发明名称 | 清洗剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于除去在透镜等的光学物品的研磨加工工序中使用的固定剂或保护膜的清洗剂用组合物，所述清洗剂用组合物不使用对环境以及人体产生影响的卤系溶剂、卤化碳系溶剂、芳香族系溶剂，对各种固定剂以及保护膜具有高的清洗力。所述清洗剂用组合物例如可以由二丙二醇单甲基醚或二丙二醇二甲基醚等的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及环癸烷、环十一烷、环十二烷等的碳数10～15的环烷烃25～75重量％构成。 | ||
| 申请公布号 | CN1730641A | 申请公布日期 | 2006.02.08 |
| 申请号 | CN200510089589.8 | 申请日期 | 2005.08.04 |
| 申请人 | 株式会社德山 | 发明人 | 井上贺文 |
| 分类号 | C11D7/26(2006.01) | 主分类号 | C11D7/26(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.一种清洗剂用组合物，其特征在于，含有下式表示的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳数10～15的环烷烃25～75重量％，R1-(O-CnH2n)m-O-R2 式中，R1是碳数1～4的烷基，R2是氢原子或碳数1～4的烷基，m是1～3的整数，n是2或3。 | ||
| 地址 | 日本山口 | ||