| 发明名称 | 光致抗蚀剂单体,其共聚物和使用该共聚物的组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种新型单体、该单体的共聚物和从其制得的光致抗蚀剂组合物。本发明的光致抗蚀剂单体由下面化学式1表示： | ||
| 申请公布号 | CN1240666C | 申请公布日期 | 2006.02.08 |
| 申请号 | CN99118357.6 | 申请日期 | 1999.08.26 |
| 申请人 | 现代电子产业株式会社 | 发明人 | 李根守;郑载昌;高次元;白基镐;郑旼镐 |
| 分类号 | C07C69/757(2006.01);C08F222/00(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | C07C69/757(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平;王达佐 |
| 主权项 | 1.包括由下面化学式1表示的至少一种单体的光致抗蚀剂聚合物：<化学式1><img file="C991183570002C1.GIF" wi="255" he="420" />其中R是取代或未取代的直链或支链(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)亚烷基，取代或未取代的(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)醚，取代或未取代的(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)酯，或取代或未取代的(C<sub>1</sub>-C<sub>10</sub>)酮；X和Y独立地是CH<sub>2</sub>，CH<sub>2</sub>CH<sub>2</sub>，氧或硫；和i是0或1-2的整数。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||