用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法及光刻系统

摘要

用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法及光刻系统，其特征在于使用两个正交的声光调制器，使从激光器发出的激光束发生偏转，当声光调制器上未加超声功率时，激光直接透过声光调制器，为掩模提供垂直照明；当声光调制器加上一定频率的超声功率时，则产生偏转角与超声频率成正比的一级衍射光，为水平方向偏置曝光和垂直方向偏置曝光提供照明，通过改变超声功率可方便调节一级衍射光的强弱，实现不用衰减滤光片的曝光强度控制，通过改变超声波频率可实时控制偏转角大小，可方便、灵活、快捷地实现成像干涉光刻的三次曝光，产生高保真度的抗蚀剂图形。

主权项

1、用两个正交声光调制器的成像干涉光刻方法，其特征在于：将两个正交放置的声光调制器放置于激光器后面，当声光调制器未加超声功率时，从激光器发出的激光束直接透过两个声光调制器为掩模提高垂直照明光束，实现低频分量曝光；当一个声光调制器加上一定频率的超声功率时，其一级衍射光在水平面内与光轴偏离一个角度，为掩模提供水平面内偏置照明，实现X方向偏置曝光；另一个与之正交的声光调制器为掩模提供垂直平面内偏置照明，实现Y方向偏置曝光，完成成像干涉光刻所需的三次曝光。