| 发明名称 |
Cleaning gas for semiconductor production equipment |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
HK1051934(A1) |
申请公布日期 |
2006.02.03 |
| 申请号 |
HK20030104036 |
申请日期 |
2003.06.09 |
| 申请人 |
SHOWA DENKO K.K. |
发明人 |
HIROMOTO OHNO;TOSHIO OHI;SHUJI YOSHIDA;MANABU OHHIRA;KOUTAROU TANAKA |
| 分类号 |
C23C16/44;(IPC1-7):H01L;C23C;B08B;C23F |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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