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发明名称 VAPOR DEPOSITION SOURCE WITH MINIMIZED CONDENSATION EFFECTS
摘要 A thermal physical vapor deposition source for depositing material onto a substrate includes an elongated container for receiving the material, the container having a conductance C<sub
申请公布号 WO2005083145(A3) 申请公布日期 2006.02.02
申请号 WO2005US04394 申请日期 2005.02.11
申请人 EASTMAN KODAK COMPANY;GRACE, JEREMY, MATTHEW;FREEMAN, DENNIS, RAY;KLUG, JUSTIN, HAGER;REDDEN, NEIL, PATRICK 发明人 GRACE, JEREMY, MATTHEW;FREEMAN, DENNIS, RAY;KLUG, JUSTIN, HAGER;REDDEN, NEIL, PATRICK
分类号 C23C14/00;C23C14/12;C23C14/24;H01L21/76;H01L51/00;H01L51/40;H01L51/56 主分类号 C23C14/00
代理机构 代理人
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