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发明名称 Verfahren zur Reduzierung der Dielektrizitätskonstante in einer SiOC Schicht
摘要
申请公布号 DE60116216(D1) 申请公布日期 2006.02.02
申请号 DE20016016216 申请日期 2001.08.29
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 GAILLARD, FREDERIC;LIM, TIAN-HOE;YIEH, ELLIE;LU, YUNG-CHENG;YAU, WAI-FAN;LIU, KUO-WEI;JENG, SHIN-PUU;XIA, LI-QUN
分类号 C23C16/22;C23C16/40;C23C16/42;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/768;H01L23/522 主分类号 C23C16/22
代理机构 代理人
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