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Es wird ein Verfahren zur Erzeugung mindestens einer lokalen Beschichtung (26) auf einem Substrat (10) beschrieben sowie ein kombinatorisches Substrat (10), diese aufweisend, wobei in einem ersten Schritt auf dem Substrat (10) eine zerstörungsfrei abnehmbare Maske (16) angeordnet wird, die mindestens eine Durchbrechung (20) aufweist, wobei in einem zweiten Schritt die Durchbrechung (20) mit einer Reaktionslösung (22) zumindest teilweise gefüllt wird und wobei in einem dritten Schritt eine Beschichtungsreaktion der Reaktionslösung (22) mit der Substratoberfläche (10) unter Ausbildung der Beschichtung (26) induziert wird. |
