发明名称 电容器及制造该电容器的方法
摘要 本发明的电容器系包括:一开放部分,形成在一半导体基板上之层间绝缘薄膜;一下电极,由具一不平坦表面部分之复晶矽所制;一化学氧化物薄膜,形成于该下电极之不平坦表面部分上;一氮氧化矽薄膜,其系藉氮化制程修改该化学氧化物薄膜而得;一电容绝缘薄膜,由形成于该氮氧化矽薄膜上之一金属氧化物薄膜所制成;一上电极,形成于该电容绝缘薄膜上。
申请公布号 TW200605329 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094117467 申请日期 2005.05.27
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 河崎泰宏;米田健司
分类号 H01L27/108 主分类号 H01L27/108
代理机构 代理人 林镒珠
主权项
地址 日本