发明名称 复型薄膜装置之制造
摘要 本发明为一种形成复数个薄膜装置的方法。该方法包括将一可挠性基材上之至少一种薄膜材料粗略地图案化,和以自我对准压印微影技术(SAIL)制程在该可挠性基材上形成复数个薄膜元件。
申请公布号 TW200605326 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094120595 申请日期 2005.06.21
申请人 惠普研发公司 发明人 陶斯格;梅平;罕柏根
分类号 H01L27/10 主分类号 H01L27/10
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国
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