单一晶圆清洗装置以及其清洗方法

摘要

本发明提供一种单一晶圆清洗方法以及其清洗装置，其中冲洗处理的过渡时期系快速执行，不受化学液体成分的影响，并且抑制化学液体的聚合物和残留物以减少基板上的缺陷。根据本发明一具体实施例的单一晶圆清洗方法，是一种当旋转一待清洗基板30时藉由一化学液体8和一冲洗液体14执行清洗的单一晶圆清洗方法，其中藉由移动在待清洗基板30上的化学液体喷嘴10执行化学液体处理之后，藉由从一冲洗喷嘴16排放冲洗液体14在待清洗基板30上进行冲洗处理，该冲洗喷嘴固定在不干扰化学液体喷嘴10运动的位置。