改善原子层沉积制程之方法及装置

摘要

一种改善原子层沉积制程之装置及方法，系先形成一屏蔽罩于一反应室，以将反应室分隔成一第一次反应室与一第二次反应室。接着分别导入一第一前驱气体与一第二前驱气体于第一次反应室与第二次反应室中，并送入一晶圆至第一次反应室内。当此晶圆表面所吸附之第一前驱气体达饱和状态后，即旋转一轴承而使晶圆移动至第二次反应室内与第二前驱气体反应。其中，上述之屏蔽罩可用来移除晶圆上未反应的第一前驱气体与第二前驱气体。然后再送入另一晶圆至第一次反应室，以同时处理复数个晶圆而提高制程的生产效率。