发明名称 | 薄膜电晶体及其电路的制作方法 | ||
摘要 | 一种于基板上制作薄膜电晶体的方法,基板之表面包含有闸极电极与闸极绝缘层,先利用被氢气所稀释之矽甲烷进行一沉积制程,于闸极绝缘层之上形成含矽薄膜,再利用氢气作为反应气体进行一电浆蚀刻制程,接着至少重复沉积以及蚀刻制程一次以形成介面层,最后于介面层之上形成非晶矽层、掺杂半导体层、源极以及汲极电极。 | ||
申请公布号 | TW200605356 | 申请公布日期 | 2006.02.01 |
申请号 | TW093122446 | 申请日期 | 2004.07.27 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 甘丰源;林汉涂 |
分类号 | H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/786 |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号 |