发明名称 可提升光利用率及发射均匀度的光导装置
摘要 本发明在提供可提升光利用率及发射均匀度的光导装置,是将入射光改变光路径后导引至光学平面上,光导装置包含一三角柱单元及复数彼此光连接且渐次远离三角柱单元排列设置的四角柱单元,当入射光进入三角柱单元后经过镀有镀膜的通过界面时,预定光量的光折射离开三角柱单元并进入与之相连的四角柱单元,部分光反射后行进至光学平面,每一四角柱单元包含平行于三角柱单元之通过界与镀有预定反射率之镀膜的通过界面,且镀膜的反射率是依序相对远离三角柱单元而递减,使自三角柱单元离开进入四角柱单元的光,经过有镀膜的通过界面时预定光量的光折射后进入另一相邻之四角柱单元中进行类似的光行进模式,部分光反射后射出至光学平面,进而使入射光可均匀地被导引至光学平面。
申请公布号 TW200604570 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW093121749 申请日期 2004.07.21
申请人 亚洲光学股份有限公司 发明人 唐乃元
分类号 G02B26/08 主分类号 G02B26/08
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 台中县潭子乡台中加工出口区南二路22之3号