用于改进对准制程整合的纵长特征

摘要

对准或重叠以及其他制程的改良制程整合。一基底可以其有一或多个对准特征，其可以包含在对准标记或重叠特征之中。纵长特征(例如：虚设特征)可以使用于邻近该些对准特征处。举例而言，直线形状的虚设特征可以使用在一对准区域之中，其中来自一对准制程的光线可以与该些对准特征以及该些纵长特征相互作用。该些纵长特征可以与该些对准特征位于同一层，或是不同层之中。