发明名称 氯化镓系半导体积层体构造体
摘要 〔课题〕解决即使在蓝宝石基板上隔着低温缓冲层而形成GaN系III族氮化物半导体层,也不能得到充分稳定具有均一定向性之GaN系半导体层的问题。〔解决手段〕本发明之特征为:设于蓝宝石基板100上的与基板100接合区域内含有具备单结晶层的低温缓冲层101,且该单结晶层为由一包括经均一定向成与蓝宝石的〔2.–1.–1. 0.〕方向平行之〔1. 0.–1. 0.〕方向、且含Ga较Al更丰富的六方形结晶之AlXGaYN(0.5<Y≦1、X+Y=1)单结晶所构成。
申请公布号 TW200605410 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094118983 申请日期 2005.06.09
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 宇田川隆
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本