发明名称 高纯度三甲基铝及三甲基铝之精制方法
摘要 本发明系提供一种不纯物含量为有机矽成份≦0.5ppm、氯成份≦20ppm、烃成份≦1,00ppm、Ca≦0.05ppm、Fe≦0.05ppm、Mg≦0.05ppm、Na≦0.05ppmn、Si(该有机矽成份以外之Si份)≦0.07ppm、Zn≦0.05ppmn、S≦0.05ppm之高纯度三甲基铝。本发明可轻易于工业上取得廉价之高纯度三甲基铝,该高纯度之三甲基铝可取得定向性晶生成与高机能之化合物半导体材料。且,蒸馏残液亦适用于较高纯度之聚烯烃制造触媒等,于工业上有效利用上可补平成本面。
申请公布号 TW200604204 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094120313 申请日期 2005.06.17
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 津寺贵信;田中秀二;岩井大佑;西宽实;本间孝之
分类号 C07F5/06 主分类号 C07F5/06
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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