发明名称 印章之改良结构
摘要 一种印章之改良结构,其主要系于一印章本体之一侧凹设一具开口之容置空间,于该容置空间内充填有适量之浸泡液,并以一具特殊意义或特别喜爱之内容置物置于该浸泡液内,再利用黏胶将一盖体封盖于该容置空间之开口上,使该容置空间形成一稳固之封闭空间,以妥善保存该内容置物,于该盖体之外表侧设有适形之外饰物,且该内容置物可依需结合一可发出闪烁光线之闪光器,藉以形成一兼具有特殊保存意义且丰富多变观赏功能之印章结构。
申请公布号 TWM286980 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094218536 申请日期 2005.10.27
申请人 严进忠 发明人 严进忠
分类号 G09F3/02 主分类号 G09F3/02
代理机构 代理人
主权项 1.一种印章之改良结构,其至少包括: 一印章本体,一侧凹陷一具开口之容置空间,于该 容置空间内充填有适量之浸泡液;一内容置物,可 为具特殊意义或特别喜爱之物件; 一盖体,利用黏胶封盖于该容置空间开口上,使该 容置空间形成一稳固之封闭空间,以妥善保存该内 容置物,并使该内容置物浸泡漂浮于该浸泡液中, 形成一具有位置及角度变化展示形态。 2.如申请专利范围第1项所述之印章之改良结构,其 中该盖体外表侧至少设有一适形之外饰物,使该盖 体与印章本体结合后,该外饰物可于印章本体顶侧 形成一装饰。 3.如申请专利范围第1或2项所述之印章之改良结构 ,其中该内容置物可结合一可发出闪烁光线之闪光 器,藉以使该印章本体于使用时可产生丰富多变之 光线变化。 4.如申请专利范围第1或2项所述之印章之改良结构 ,其中该印章本体之容置空间开口周缘环设有一环 凸缘,而该盖体则于相对部位设有一凹部,利用该 凹部套盖于该环凸缘,可使该盖体与印章本体结合 时产生定位。 5.如申请专利范围第3项所述之印章之改良结构,其 中该印章本体之容置空间开口周缘环设有一环凸 缘,而该盖体则于相对部位设有一凹部,利用该凹 部套盖于该环凸缘,可使该盖体与印章本体结合时 产生定位。 6.如申请专利范围第1或2项所述之印章之改良结构 ,其中该浸泡液系油质液体。 7.如申请专利范围第3项所述之印章之改良结构,其 中该浸泡液系油质液体。 图式简单说明: 第1图系本创作第一实施例之构造分解图。 第2图系本创作第一实施例之组合外观图。 第3图系本创作第二实施例之构造分解图。 第4图系本创作第二实施例之组合外观图。
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