发明名称 研磨液维持器
摘要 兹提供一种基材研磨设备及方法。一基座包括至少一可移动平台,以啮合一研磨垫;至少一承载头组件,以于研磨操作期间将一基材压抵于该大致位于一研磨区域内的研磨垫;一研磨液分配器,用以在研磨操作期间提供一研磨液至该大致位于该研磨区域内的研磨垫;以及一研磨液维持机构,接附于该基座或该承载头组件之一者,其中该维持机构可啮合该研磨垫之一上表面,并于研磨换作期间将该研磨液大致维持在该研磨区域内。部分实施例可减少研磨液消耗并增加角速度。
申请公布号 TW200605216 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094124597 申请日期 2005.07.20
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 郑汉中;刘凤Q LIU, FENG Q;蔡史坦D TSAI, STAN D.;梅夫利佛勒士德;奥葛多唐诺得;陈良毓
分类号 H01L21/304;H01L21/463 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 蔡坤财
主权项
地址 美国
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