发明名称 用以控制腔室清理制程的方法与处理系统
摘要 一种用以在处理室中控制放热腔室清理制程之方法与系统。该方法包含下列步骤:在腔室清理制程中,使系统元件暴露于清理气体,以自系统元件移除材料沈积物;监测在腔室清理制程中之至少一温度相关系统元件参数;自监测步骤决定系统元件之清理状态;以及基于来自决定步骤之状态,执行下列其中之一:(a)继续暴露步骤与监测步骤,或(b)停止制程。
申请公布号 TW200605210 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094118174 申请日期 2005.06.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 艾曼纽 古得堤
分类号 H01L21/302;C23C16/44 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项
地址 日本