发明名称 | 用以控制腔室清理制程的方法与处理系统 | ||
摘要 | 一种用以在处理室中控制放热腔室清理制程之方法与系统。该方法包含下列步骤:在腔室清理制程中,使系统元件暴露于清理气体,以自系统元件移除材料沈积物;监测在腔室清理制程中之至少一温度相关系统元件参数;自监测步骤决定系统元件之清理状态;以及基于来自决定步骤之状态,执行下列其中之一:(a)继续暴露步骤与监测步骤,或(b)停止制程。 | ||
申请公布号 | TW200605210 | 申请公布日期 | 2006.02.01 |
申请号 | TW094118174 | 申请日期 | 2005.06.02 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 艾曼纽 古得堤 |
分类号 | H01L21/302;C23C16/44 | 主分类号 | H01L21/302 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋;周良吉 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |