表面涂敷组成物

摘要

本发明系有关表面涂敷组成物，其特征为使用至少含有式〔1〕、〔2〕、〔3〕所示任一种构造之高分子，且涂敷于光阻剂上面。将该表面涂敷组成物溶解于有机溶剂中即可制造表面涂敷组成物溶液。此等表面涂敷组成物与表面涂敷组成物溶液可用于浸润式微影蚀刻(immersion lithography)。094109450-p01.bmp094109450-p02.bmp