发明名称 | 反应腔室泄漏的检测方法以及蚀刻/沈积制程 | ||
摘要 | 一种反应腔室泄漏的检测方法,此方法系首先在一反应腔室中通入一气体,且所通入之气体系以全流量之条件通入反应腔室中。之后,量测反应腔室中之压力是否异常,即可判断出反应腔室是否有泄漏。若有泄漏之情形发生,外界的空气将会进入反应腔室中而使反应腔室之压力提高,如此即可判断出反应腔室有泄漏。 | ||
申请公布号 | TW200605250 | 申请公布日期 | 2006.02.01 |
申请号 | TW093122033 | 申请日期 | 2004.07.23 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 张圣文;简益辉;林仲仁;林佩筠 |
分类号 | H01L21/66;G01M3/02 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路16号 |