发明名称 反应腔室泄漏的检测方法以及蚀刻/沈积制程
摘要 一种反应腔室泄漏的检测方法,此方法系首先在一反应腔室中通入一气体,且所通入之气体系以全流量之条件通入反应腔室中。之后,量测反应腔室中之压力是否异常,即可判断出反应腔室是否有泄漏。若有泄漏之情形发生,外界的空气将会进入反应腔室中而使反应腔室之压力提高,如此即可判断出反应腔室有泄漏。
申请公布号 TW200605250 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW093122033 申请日期 2004.07.23
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 张圣文;简益辉;林仲仁;林佩筠
分类号 H01L21/66;G01M3/02 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路16号
您可能感兴趣的专利