发明名称 具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物之制造方法
摘要 本发明提供一种工业上可有利且温和条件下,将具有异氰酸酯基之3–氯丙酸酯衍生物进行脱氯化氢,高收率下制造出水解性氯的残留量较少的具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物之方法。本发明系关于一种具有异氰酸酯基的(甲基)丙烯酸酯衍生物之制造方法,其为将具有异氰酸酯基之3–氯丙酸酯衍生物,于存在具有第3级氮的硷性氮化合物下进行脱氯化氢之方法,其特征为该硷性氮化合物的第3级氮为,至少具有1个芳香环基以外的基者。
申请公布号 TW200604150 申请公布日期 2006.02.01
申请号 TW094108829 申请日期 2005.03.22
申请人 昭和电工股份有限公司 发明人 野泽金男;森中克利
分类号 C07C263/20;C07C265/04 主分类号 C07C263/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本