奈米压印之压模及其制备方法

摘要

本发明属于奈米压印技术，提供一种奈米压印之压模，其包括一基底；复数奈米结构形成于该基底，其与该基底系一整体；及一镀层覆盖于该奈米结构之表面；该镀层系奈米类金刚石碳膜或奈米晶金刚石膜。所述基底及奈米结构之材料系选自碳化矽、氮化矽或碳氮化矽。上述镀层厚度为奈米级，最好在10奈米以下。另外，本发明还提供这种压模之制备方法。首先利用微影蚀刻技术于矽基底形成奈米图案，然后沈积压模材料形成初步模仁，最后镀上奈米类金刚石碳膜或奈米晶金刚石膜得到奈米压印之压模。